Ảnh hưởng của nhiệt độ và thời gian sấy đến lớp vật liệu cản quang Su-8 sử dụng làm mặt nạ cứng trong kỹ thuật quan học khắc sâu

Lưu vào:
Hiển thị chi tiết
Tác giả chính: Bùi, Tuấn Anh
Định dạng: Bài trích
Ngôn ngữ:Vietnamese
Thông tin xuất bản: 2023
Chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://sti.vista.gov.vn/tw/Pages/tai-lieu-khcn.aspx?ItemID=306786
http://thuvienlamdong.org.vn:81/handle/DL_134679/21976
Từ khóa: Thêm từ khóa bạn đọc
Không có từ khóa, Hãy là người đầu tiên gắn từ khóa cho biểu ghi này!